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idecoptics 復享
致力于為半導體先進制程提供集成測控產(chǎn)品和端到端一體化服務
8／公司介紹
上海復享光學股份有限公司成立于2011年，是一家服務于微納制造和基礎研究等領域的光學計量檢測儀器設備公司，是國內光譜技術領軍企業(yè)，入選第五批國家級專精特新“小巨人"企業(yè)，被上海市科學技術委員會授予“上海微納制程智能檢測工程中心"建設單位。近年來，公司憑借自主研發(fā)的深度光譜技術平臺的深厚積累，瞄準具有較大市場規(guī)模的卡脖子關鍵技術點重點突破，為半導體前道工藝的光刻、刻蝕、鍍膜、CMP、量檢測等領域的頭部企業(yè)提供核心光學子系統(tǒng)和深度算法，并配合客戶實現(xiàn)國產(chǎn)替代需求，助力推動微納制造發(fā)展。
O/半導體業(yè)務概覽
復享光學面向先進制程、先進封裝與先進材料等產(chǎn)業(yè)方向，融合多維多模態(tài)感知技術，發(fā)展實時與原位的測控驅執(zhí)技術，為半導體裝備提供精準可靠的集成式測控解決方案。
五大工藝過程
刻蝕與清洗過程組 離子注入過程組 圖形化過程組 沉積過程組 減薄與CMP過程組 + 量測與檢測
InView-OES
常規(guī)膜層刻蝕：Poly、SiNx、OX、PR、Metal等
VCSELmesa刻蝕、超薄膜層刻蝕、低開口率刻蝕、高深寬比刻蝕、IBE刻蝕等極弱OES信號刻蝕場景下的終點抓取
干法去膠、PECVD腔室清潔等工藝控制場景
| InView-OES-ND | InView-OES-SM | |
| 类别 | High Performance | General Purpose |
| 波段 | 200-980 nm | 200-850 nm |
| 信噪比 | 1000:1 | 350:1 |
| 动态范围 | 25000:1 | 5500:1 |
| 分辨率 | 1.68nm@10 μm狭缝 | 2.5nm@50 μm狭缝 |
| 通讯方式 | 网口 | 网口 |
配備InView-IEP.BOX和ideaEPD工業(yè)軟件
可定制高效率光路
體積緊湊
可定制模型算法
< 1 % 原位膜厚監(jiān)測精度
良應用領域
功率器件：溝槽型SiCMOSFETtrench刻蝕
存儲器件：3DNANDstaircase刻蝕
邏輯器件：柵極刻蝕
其他復雜patternwafer刻蝕場景
薄膜沉積原位膜厚監(jiān)控
MetronFilm-EX(全波段款)
反射膜厚測量儀
| 技术参数 | 参数指标 |
| 波长范围 | 190~1100nm |
| 光源 | 外置氘灯+卤素灯 |
| 厚度测量范围* | 1nm~260μm |
| 测量n&k最小厚度* | 50nm |
| 准确度*： | 1nm@≤500nm，或0.2%@≥500nm |
| 精度1 | 0.02nm |
| 稳定性² | 0.05nm |
| 光斑大小 | 1.5mm |
| 样品尺寸 | 直径从1mm到300mm或更大 |
| 测量速度 | 单层小于1秒 |
超寬測量范圍1nm - 2 6 0 \mu { m } , 從超薄膜至厚膜達到超廣覆蓋。\*
·溯源NIST,測量準確性有保證，膜厚在 5 0 0 \mathsf { n m } 以下準確度達到1nm，膜厚在500nm以上準確度達到 1 0 . 2 % _ { \tt c } \*
著眼特色工藝，助力先進制程
適用多種先進工藝，可測單/多層膜的厚度和n&k。二元復合多層膜實測可多達232層(見文獻1)。可應用于如3D NAND、A R + H C 復合光學涂層、PERC薄膜等的復雜膜系測量。
快速測量，單層膜測量1s內完成;多層膜檢測耗時數(shù)量級下降。
光學測量；非接觸、非破壞測量
節(jié)省空間、配置靈活、支持定制化
\*參數(shù)均取決于材料，詳見技術規(guī)格 1 Fanetal.Light: Advanced Manufacturing(2021)2:27. https://doi.org/10.37188/lam.2021.027
2nm極薄膜測量 SiO2 on Si (2nm)
| Max | 2.85nm |
| Min | 2.62 nm |
| Range | 0.22nm (8%) |
| Average | 2.73nm |
| Std | 0.07nm |
MetronFilm-EX對低至2nm超薄膜實現(xiàn)精準測量。
100次測量結果均達到標注的準確度標準（1nm或 0 . 2 % { \omega } 5 0 0 \mathsf { n m } 以上)
光刻膠厚度及n&k測量 光刻膠950-PMMA
MetronME-XT-300
全自動穆勒矩陣橢偏儀
·先進的雙旋轉補償器測量技術，單次測量可獲取16組全穆勒矩陣光譜;可實現(xiàn)MullerMatrix、橢偏參數(shù)Psi&Delta (N&C&S)、反射率R、透射率T、偏振反射率Rp/Rs、偏振透射率Tp/Ts、偏振度DOP光譜的高精度測量；
覆蓋寬測量波段，典型測量波段為245\~1000nm,支持向深紫外和紅外波段擴展;測量靈敏度極高，可實現(xiàn)單原子層級膜厚測量準度；配備自動位移臺，支持兼容4\~12寸晶圓Mapping功能,掃描路徑參數(shù)化與自定義設置;支持自動對焦模塊；高速光譜采集技術，可實現(xiàn)毫秒級光譜測量與分析;·支持擴展毫米級大光斑測量和微米級微光斑測量兩種模式;·可視化樣品對準，便于進行微區(qū)測量；·軟件具備強大的數(shù)據(jù)分析能力，材料庫包括上百種典型材料光學常數(shù)，人機交互方便快捷。
應用領域
idecoptics 復享
讓制程更可控
上海復享光學股份有限公司ideaoptics Inc.
Tel: 400-001-5685
Web:www.ideaoptics.com
Sales Email:400@ideaoptics.cn
Add:上海市浦東新區(qū)金滬路358弄3號樓
